商品名稱： HYZK-1200真空光學（電子槍）鍍膜機
型號： HYZK-1200
規格： Ф1200×H1300mm
商品描述：
|
HYZK系列真空光學（電子槍）鍍膜機型號及技術參數 | |||
|
性能 型號 |
HYZK -900 |
HYZK -1200 |
HYZK -1300 |
|
鍍膜室尺寸 |
Ф900×H1050mm |
Ф1200×H1300mm |
Ф1300×H1400mm |
|
工裝夾具 |
拱形單工件盤，更大限度滿足客戶對均勻性的需要，旋轉5-30 r/min,無級變速 |
1.拱型單工件盤,滿足客戶對均勻性的要求,旋轉530r/min,無級變速. 2.拱型三工件盤,行星公自轉,滿足客戶對生產量的要求,旋轉5-30r/min,無級變速 | |
|
真空系統 |
擴散泵KT-600,羅茨泵ZJ-300,機械泵2X-70,維持泵2X-8,管路為304不銹鋼. |
擴散泵KT-900羅茨泵ZJ-600,滑閥泵H—150型，,維持泵2X-15,管路為304不銹鋼. |
擴散泵KT-900羅茨泵ZJ-600, 滑閥泵H—150型，,維持泵2X-15，管路為304不銹鋼. |
|
極限真空：優于6×10-4PA | |||
|
配置防湍流裝置,安全互鎖設計,手動,自動可選 | |||
|
加熱系統 |
發熱管上加熱方式，PID控制，最高350℃±1.5℃。 | ||
|
工作氣體充氣 |
氣體質量控制儀或是手動微調充氣閥 | ||
|
真空離子轟擊 |
直流3KV,0.6KW棒狀陰極(用于鍍膜前自行對工件進行清洗)和氣體離子源選配 | ||
|
蒸發源 （選配） |
1.電子槍:6KW、高壓4KV-10KV可調。定位掃描、三角波掃描、圓形掃描、螺旋掃描、方波掃描、正弦波、束斑聚焦性好、定位精度高、掃描再現性好。 | ||
|
2.坩堝:六穴Φ38*20坩堝或四穴Φ38*20加一穴中心弧長87的弧形坩堝（用于耗量大低熔點蒸發材料）或穴Φ48*18坩堝。 | |||
|
離子源 (選配） |
1.5KVA霍兩離子源:用于電鍍前清洗或電鍍過程進行輔助鍍,有利于提高膜層折射率、牢固度、提高膜層致辭密性、附著力。 | ||
|
鍍膜控制系統 （選配） |
1.晶控器:可儲存1-99層自動鍍膜過程,99種程序數據,精度0.5$+1A固定誤差。 | ||
|
2.光控器:采用多波長的全光譜終點分析技術,通過對監控片370-870mm的透射率(或反射率)曲線分析來判定膜層,控制精度高；也可采用單波長控制,自動控制和手動控制。附加MACILEOD膜系計算軟件,一體化程度高。 | |||
|
3.光控器配合晶控器能滿足高精度,高重復性的鍍膜要求,與上位機配合可以實現自動控制 | |||
|
4.國產光控器:波長330-870可調，精度可達到±1.5NM。 | |||
