042015-10
電化學清洗是在真空鍍膜生產線上常用的一種表面凈化方法，分為兩種，一種是點解侵蝕，一種是電化學拋光。 電解侵蝕對于侵蝕時間和溶液的要求比較低，比化學侵蝕的效果更好，它分為陽極和陰極，陽極侵蝕是鍍件接陽極，在50~60℃下通過氧氣氣泡的沖擊把氧化物去掉，而陰極侵蝕是鍍膜接陰極，通...
232017-06
需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是利用真空鍍膜機加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來...
272017-05
真空鍍膜機指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。1．建筑五金：衛浴五金（如水龍頭）．門鎖．門拉手．衛浴、五金合葉、家具等。2．制表業：可用于表殼．表帶的鍍膜、水晶制品。3．其它小五金：皮革五金．不銹鋼餐具．眼...
042015-10
真空鍍膜機連續使用半年以上，那么設備的抽速將會明顯變慢，那么該怎么去維護呢? 首先，必須要沖入大氣，拆去聯結水管，將一級噴嘴擰出來，再用汽油將泵腔及泵膽清洗一下，再用清潔劑洗一遍，待水份揮發干后，裝好泵膽，重新加入新擴散的泵油，并裝回機體，便可重新開機。真空電鍍在重新開機時，要特別注意撿漏工作，先觀察擴散泵部分真空度是...
212013-11
真空電鍍設備的工作條件 真空鍍膜設備的正常工作條件是： ①環境溫度 10~30℃ ②相對濕度 不大于70% ③冷卻水進水溫...
052013-12
真空鍍膜機的化學成分1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但...
122013-12
真空電鍍設備廠家講述真空鍍膜機的鍍膜技術的類型真空鍍膜機鍍膜一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜機鍍膜方法有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。 蒸發鍍膜：通過加熱蒸發某種物質使其沉積在...
192013-12
真空鍍膜機廠家講述真空鍍膜設備的工作環境 真空鍍膜設備要在真空條件下工作，真空對環境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環境的要求，和對處于真空狀態或真空中的零件或...
302013-12
多弧離子真空鍍膜機鍍技術是采用陰極電弧蒸發源的一種離子鍍技術。陰極電弧蒸發源可以是Ti,AI,Zr,Cr等單相靶材，也可以是由它們組成的多相靶材，多弧離子鍍應用面廣，實用性強。除了具有其他各種離子鍍方法的廣泛途外，特別在高速鋼刀具鍍覆TiN等超硬膜層的應用方面的發展最為迅速，并進入了工業化階段。 TiN薄膜由于其具有高硬度、低摩擦系數...
042014-01
真空鍍膜設備的適用范圍真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。在這里，真空電鍍設備廠家介紹真空鍍膜設備的適...
192014-03
離子束濺射沉積是在離子束技術基礎上發展起來的新的成膜技術。按用于薄膜沉積的離子束功能的不同，可分為兩類。一類是一次離子束沉積，這時離子束由需要沉積的薄膜組分材料的離子組成，離子能量較低，它們在到達基體后就沉積成膜，又稱低能離子束沉積。另一類為二次離子束沉積，離子束是由惰性氣體或反應氣體的離子組成，離...
192014-03
蒸發系列卷繞鍍膜設備主要用于在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面真空蒸鍍金屬膜。產品廣泛用于包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業等領域。本系列設備具有運行平穩、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產周期短、能耗低、操作維護方便、性能穩定等特點 蒸發法真空鍍膜的原理 真空鍍膜是將固體材料置于真空室內，在真空條...
