離子束濺射鍍膜設備

發布時間:2014年03月19日

    離子束濺射沉積是在離子束技術基礎上發展起來的新的成膜技術。按用于薄膜沉積的離子束功能的不同,可分為兩類。一類是一次離子束沉積,這時離子束由需要沉積的薄膜組分材料的離子組成,離子能量較低,它們在到達基體后就沉積成膜,又稱低能離子束沉積。另一類為二次離子束沉積,離子束是由惰性氣體或反應氣體的離子組成,離子的能量較高,它們打到由需要沉積的材料組成的靶上,引起靶原子濺射,再沉積到基體上形成薄膜,因此,又稱離子束濺射。


離子束濺射技術中所用的離子源可以是單源、雙源和多源。
    離子束濺射鍍膜設備適合制備多成分的多層膜,已在磁性材料、超導材料以及其他電子材料的薄膜制備方面得到應用。

文章由鍍膜機廠家提供  轉載請注明出處:http://www.ban-0.com/cpzs/content-340.html

返回列表
夜夜揉揉日日人人,黄 色 成 人网站免费,欧美ZOOZ人禽交,少妇挑战3个黑人叫声凄惨